Cleansing Oxygen Mask

30,90 

386,25  / 100 ml

  • Hilft, Giftstoffe auszuscheiden
  • Versorgt die Haut mit Sauerstoff
  • Wirkt entzündungshemmend
  • Beschleunigt die Zellerneuerung
  • 6 x 8 ml
Artikelnummer: 138 Kategorie: Schlagwort:

Beschreibung

Entgifte deine Haut und gönne ihr eine wohltuende Sauerstoffkur! Die Cleansing Oxygen Mask ist eine effektive Gesichtsmaske, die deiner gestressten Haut neuen Glanz verleiht. Aktivkohle und hawaiianische Vulkanasche spenden deiner Haut Feuchtigkeit und lassen Entzündungen, Pickel und Unreinheiten verschwinden. Regelmäßig angewandt, reguliert die Maske die Talgproduktion deiner Haut, absorbiert oxidativen Stress aus ihren Zellen und sorgt für ein glattes sowie feines Hautbild. Zudem reichert die Cleansing Oxygen Mask deine Hautzellen mit Sauerstoff an und sorgt dadurch für ein frisches sowie ausgeglichenes Hautbild.

Anwendung

Trage die Cleansing Oxygen Mask nach Schritt 2 deiner Pflegeroutine auf deine Gesichtshaut auf. Lasse sie zehn bis 15 Minuten einwirken und nimm sie anschließend mit einem feuchten Kosmetiktuch ab. Optional kannst du zuvor ein Peeling anwenden, um die Wirkung der Maske noch zu verbessern. Setze im Anschluss deine Gesichtspflege wie gewohnt fort. Tipp: Verwende dunkle Kompressen beziehungsweise Schwämmchen, um Reste der Maske abzunehmen.

Inhaltsstoffe

AQUA, KAOLIN, BUTYLENE GLYCOL, DECYL GLUCOSIDE, GLYCERIN, BENTONITE, ALOE BARBADENSIS LEAF JUICE, PERSEA GRATISSIMA OIL, CHARCOAL POWDER, VOLCANIC ASH, BOERHAVIA DIFFUSA ROOT EXTRACT, PHENOXYETHANOL, CAPRYLYL GLYCOL, ETHYLHEXYLGLYCERIN, HEXYLENE GLYCOL, BISABOLOL, SILICA, XANTHAN GUM, AMMONIUM ACRYLOYLDIMETHYLTAURATE/VP COPOLYMER, PERFLUOROHEXANE, PERFLUORODECALIN, LACTIC ACID, PARFUM, CHAMOMILLA RECUTITA FLOWER EXTRACT, CHLORPHENESIN, SORBIC ACID, BENZOIC ACID, EPILOBIUM ANGUSTIFOLIUM FLOWER/LEAF/STEM EXTRACT, SODIUM METABISULFITE, PENTAFLUOROPROPANE, SODIUM BICARBONATE, BUTYLPHENYL METHYLPROPIONAL, LIMONENE, HEXYL CINNAMAL, LINALOOL, BENZYL SALICYLATE, CITRAL, CITRONELLOL, T-BUTYL ALCOHOL.

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